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民生证券-半导体行业点评:上海微公布专利,光刻机国产化持续突破
➢ 国产光刻技术持续突破。EUV 光刻机采用 13.5nm 波长的极紫外光,可实现 8nm 的曝光分辨率,用于先
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2024年09月27日
